硅溶膠拋光液廣泛應(yīng)用于各種材料的納米級(jí)拋光。如:不銹鋼、鋁合金、復(fù)合晶體、精密光學(xué)器件等的表面精密拋光。
在拋光過程中，影響拋光過程的主要因素如下:
?、贉囟?隨著溫度的升高，拋光液的化學(xué)反應(yīng)能力增強(qiáng)，拋光速率加快。但是，過高的溫度會(huì)導(dǎo)致拋光液揮發(fā)，加速化學(xué)反應(yīng)，導(dǎo)致嚴(yán)重的表面腐蝕，導(dǎo)致拋光效果不均勻，拋光質(zhì)量下降。
?、谒釅A度:拋光液的酸堿度越高，堿度越強(qiáng)，反應(yīng)速度越快。然而，酸堿度對(duì)拋光表面的蝕刻、研磨劑的分解和溶解性、拋光液的穩(wěn)定性等有很大的影響。，從而影響材料的去除率和表面質(zhì)量，因此應(yīng)嚴(yán)格控制。
③壓力:一般來說，壓力越高，拋光速度越快。然而，如果壓力太高，拋光速率會(huì)稍微下降。原因是過高的壓力會(huì)降低拋光墊承載拋光液的能力。另外，過大的壓力容易造成碎片現(xiàn)象。
④轉(zhuǎn)速:提高轉(zhuǎn)速會(huì)提高拋光率。但是，過高的轉(zhuǎn)速會(huì)導(dǎo)致拋光液在拋光墊上分布不均勻，從而影響拋光質(zhì)量。
⑤拋光液濃度:當(dāng)拋光液濃度增加時(shí)，去除率增加，但當(dāng)磨粒濃度超過一定值時(shí)，材料去除率將停止增加并保持恒定值。這種現(xiàn)象被稱為去除飽和。此外，如果濃度過高，表面缺陷(如劃痕)可能會(huì)增加，從而影響表面質(zhì)量。